针对光刻机浸液系统技术，面向直接影响光刻机曝光分辨率、产率与良品率的浸液系统三大技术难题：扫描牵拉残留液滴/液膜、曝光流场污染与应力、两相回收诱发振动，在浸没流体界面行为及其控制、浸没流场分布形态检测与污染物控制、气液两相流态调制与振动抑制等方面开展研究。
